Nano-Strukturen auf Oberflächen durch Ionenbeschuss
Festkörperoberflächen, die mit Ionen (Energie pro Ion im keV Bereich) beschossen werden, können selbstorganisierte
Muster (Höhenprofile) auf Nanometer-Längenskalen ausbilden. Am häufigsten sieht man wellenartige Muster (ripple) oder
ungeordnete "Hügel" und "Täler" (dots). Mittlerweile kann man jedoch diese Nanomuster auch mit einem hohen Grad an Ordnung herstellen,
z.B. bilden die "dots" dann Sechseckgitter und sind alle fast gleich groß und hoch. Damit wird diese Musterbildung für die Produktion von technologisch relevanten Nanostrukturen
(z.B. quantum dots) interessant, es könnte ein sehr preisgünstiger "top-down" Weg zu großen Mengen solcher Strukturen sein. Gegenwärtig versteht man
allerdings die physikalischen Mechanismen bei dieser Musterbildung nur unzureichend, und daher kann man auch nicht richtig abschätzen, wie groß
das technologische Potential dieser Methode ist. Warum unter manchen Bedingungen fast perfekt geordnete Muster entstehen und unter anderen nur
sehr "unscharfe", diese Frage kann man eben noch nicht beantworten, und genau das ist unsere Fragestellung. Gegenwärtig untersuchen wir den Einfluss
von sehr geringen Mengen von Fremdatomen, die während des Ionenbeschusses dauernd auf die Oberfläche deponiert werden (und dort durch die Eorsion, die der Ionenbeschuss
bewirkt, auch wieder verschwinden). Obwohl manchmal weniger als eine Monolage dick, können sie die Musterbildung tiefgreifend beeinflussen.
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